一、權(quán)利要求書(shū)中常見(jiàn)的形式缺陷

在實(shí)際的預(yù)先審查工作中，權(quán)利要求書(shū)中常見(jiàn)的形式缺陷有：

權(quán)利要求結(jié)尾處沒(méi)有使用句號(hào)結(jié)尾或者一個(gè)權(quán)利要求中有兩個(gè)或者兩個(gè)以上句號(hào)；

權(quán)利要求沒(méi)有使用“其特征是……”或類似用語(yǔ)劃分前序部分和特征部分，或者“其特征是……”或類似用語(yǔ)出現(xiàn)多個(gè)；

“權(quán)利要求”錯(cuò)寫(xiě)為“權(quán)力要求”；

將“根據(jù)權(quán)利要求 × 所述的”錯(cuò)寫(xiě)為“根據(jù)權(quán)利要求書(shū) × 所述的”；

獨(dú)立權(quán)利要求的主題與請(qǐng)求書(shū)、說(shuō)明書(shū)中發(fā)明名稱不一致；

從屬權(quán)利要求的主題名稱與所引用的權(quán)利要求的主題名稱不一致；

獨(dú)立權(quán)利要求中進(jìn)一步限定的技術(shù)特征沒(méi)有存在于此技術(shù)特征之前（無(wú)引用基礎(chǔ)）；

從屬權(quán)利要求中進(jìn)一步限定的技術(shù)特征沒(méi)有存在于所引用的權(quán)利要求中 ( 無(wú)引用基礎(chǔ)，并且也未存在于本權(quán)利要求此技術(shù)特征之前的內(nèi)容中）；

從屬權(quán)利要求引用在前的權(quán)利要求但沒(méi)有寫(xiě)明所引用的權(quán)利要求編號(hào)；

獨(dú)立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求不能引用本身；

一項(xiàng)引用兩項(xiàng)以上權(quán)利要求的多項(xiàng)從屬權(quán)利要求不得作為另一項(xiàng)多項(xiàng)從屬權(quán)利要求的引用基礎(chǔ)（多引多問(wèn)題）；

獨(dú)立權(quán)利要求沒(méi)有寫(xiě)到要引用此獨(dú)權(quán)的從屬權(quán)利要求之前；

語(yǔ)句中存在錯(cuò)別字；

權(quán)利要求中含有類似“優(yōu)選”之類的不確定用語(yǔ)；

技術(shù)特征后的附圖標(biāo)記沒(méi)有括號(hào)；

技術(shù)特征附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)關(guān)系與附圖說(shuō)明中的對(duì)應(yīng)關(guān)系不一致。

二、說(shuō)明書(shū)中常見(jiàn)形式缺陷

說(shuō)明書(shū)中常見(jiàn)形式缺陷有：

不是標(biāo)準(zhǔn)的格式:（標(biāo)準(zhǔn)格式包括 5 個(gè)小標(biāo)題，即《專利法實(shí)施細(xì)則》第 17條規(guī)定的說(shuō)明書(shū)應(yīng)當(dāng)包括下列內(nèi)容：技術(shù)領(lǐng)域，背景技術(shù)，發(fā)明內(nèi)容，附圖說(shuō)明和具體實(shí)施方式），不是標(biāo)準(zhǔn)的組成標(biāo)題：例如，說(shuō)明書(shū)中小標(biāo)題“具體實(shí)施方式”寫(xiě)成“實(shí)施方式”；

缺少上述小標(biāo)題；

說(shuō)明書(shū)沒(méi)有按照技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、附圖說(shuō)明和具體實(shí)施方式順序撰寫(xiě)；

說(shuō)明書(shū)附圖中缺少說(shuō)明書(shū)附圖說(shuō)明中提及的附圖；

說(shuō)明書(shū)附圖中缺少附圖說(shuō)明中提及的附圖標(biāo)記；

說(shuō)明書(shū)具體實(shí)施方式中的技術(shù)特征與附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)關(guān)系錯(cuò)誤；

說(shuō)明書(shū)具體實(shí)施方式中的附圖標(biāo)記后有括號(hào)。

三、說(shuō)明書(shū)摘要常見(jiàn)形式缺陷

說(shuō)明書(shū)摘要常見(jiàn)形式缺陷：摘要文字部分（包括標(biāo)點(diǎn)符號(hào)）超過(guò) 300 個(gè)字；

請(qǐng)求書(shū)常見(jiàn)形式缺陷：請(qǐng)求書(shū)中的發(fā)明名稱和說(shuō)明書(shū)中的發(fā)明名稱不一致；

發(fā)明名稱超過(guò) 25 個(gè)字；

發(fā)明人姓名填寫(xiě)重復(fù)；

在進(jìn)入快速審查通道時(shí)發(fā)明實(shí)質(zhì)審查請(qǐng)求書(shū)中未標(biāo)明放棄主動(dòng)修改的權(quán)利。

我國(guó)《專利法》第 59 條規(guī)定，發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn)，說(shuō)明書(shū)及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容。在專利撰寫(xiě)、預(yù)審和審查過(guò)程中，權(quán)利要求書(shū)中的技術(shù)特征引用問(wèn)題和附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)問(wèn)題比較凸出，尤其是在權(quán)利要求書(shū)中存在多引多和多個(gè)獨(dú)權(quán)的情形下，技術(shù)方案中更容易出現(xiàn)缺少引用基礎(chǔ)的形式缺陷，導(dǎo)致權(quán)利要求書(shū)中相應(yīng)技術(shù)方案的保護(hù)范圍不清楚。另外，說(shuō)明書(shū)具體實(shí)施方式中的技術(shù)特征與附圖標(biāo)記不對(duì)應(yīng)問(wèn)題也比較常見(jiàn)。